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    物理化學研究用溫度機組升降溫機組

    簡要描述:物理化學研究用溫度機組升降溫機組對溫度控制的需求極為多樣,從超低溫催化反應到高溫高壓合成,需要兼具寬溫域、高精度、快速響應和多環境兼容性的升降溫機組

    • 產品型號:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-03-26
    • 訪  問  量:164

    詳細介紹


    物理化學研究用溫度機組升降溫機組選型,價格,方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通,多案例供參考。


    康士捷生產的工業控溫設備有高溫型(5℃~35℃)、中溫型(-5℃~-40℃)、低溫型(-40℃~-80℃)、超低溫型(-150℃~-80℃)、冷熱兩用型(-150℃~+300℃)等系列產品供貴司選用。制冷量大小都有,有防爆型,防腐型,撬裝式,變頻型等。接受非標定做。溫度穩定性±0.1℃等可選。


    以下列出部分參數,貴司參數溝通選型后確認。

    物理化學研究用溫度機組升降溫機組

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    物理化學研究對溫度控制的需求極為多樣,從超低溫催化反應到高溫高壓合成,需要兼具寬溫域、高精度、快速響應和多環境兼容性的升降溫機組。以下是針對物理化學研究的專業化溫度控制設備技術方案:

     1. 核心需求分類

    研究類型

    典型溫度范圍

    關鍵要求

    低溫催化反應

    -80℃~+300℃

    精確控溫(±0.1℃)、惰性氣氛保護

    電化學原位測試

    -40℃~+200℃

    防腐蝕設計、三電極體系集成

     

    2. 系統架構設計

    (1) 模塊化溫控單元

    低溫模塊:

    復疊式壓縮機制冷(-80℃

    可選磁制冷(無振動,適合敏感測量)

    高溫模塊:

    電阻爐(300℃+ 水冷夾套(防過熱)

    (2) 傳熱介質系統

    低溫區間:

    硅油(-80℃~+200℃)或液態金屬(Ga-In合金,導熱系數>30W/mK

    高溫區間:

    熔鹽(KNO?-NaNO?,最高300℃)或石墨熱場(惰性氣氛)

    (3) 環境控制系統

    真空/氣氛腔體(10?? mbar~10MPa

    多路氣體通道(H?/Ar/O?等,質量流量計控制)


    物理化學研究用溫度機組升降溫機組選型,價格,方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通,多案例供參考。

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